博思数据发布的《2021-2027年我国四氟化碳商场深度调研与出资远景研讨陈述》介绍了四氟化碳职业相关概述、我国四氟化碳工业运转环境、剖析了我国四氟化碳职业的现状、我国四氟化碳职业竞赛格式、对我国四氟化碳职业做了要点企业经营情况剖析及我国四氟化碳工业发展远景与出资猜测。您若想对四氟化碳工业有个系统的了解或许想出资四氟化碳职业，本陈述是您不可或缺的重要东西。

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　　四氟化碳是现在微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜资料的蚀刻。关于硅和二氧化硅系统，选用CF4-H2反应离子刻蚀时，经过调理两种气体的份额，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。

　　在电子器件外表清洗、太阳能电池的出产、激光技能、气相绝缘、低温制冷、走漏查验剂、操控宇宙火箭姿势、印刷电路出产中的去污剂等方面也很多运用。因为化学稳定性极强，四氟化碳还可以用于金属锻炼和塑料职业等。